مشخصات پژوهش

صفحه نخست /افزایش جذب و گسیل در ...
عنوان افزایش جذب و گسیل در نانوساختارهای تک لایه گرافن گونه با استفاده از بلور فوتونی یک بعدی
نوع پژوهش پایان نامه
کلیدواژه‌ها جذب و گسیل، مواد دو بعدی گرافن گونه، بلور فوتونی یک بعدی
چکیده در این پایان نامه، نشان می دهیم که با قرار دادن یک تک لایه از مواد دوبعدی گرافن-گونه، که تنها کسری از نانومتر ضخامت دارد، در آرایش ساختار بلور فوتونی یک بعدی، مقدار جذب یا گسیل از این گونه نانوساختارها به طور موثری افزایش می یابد. سپس با به کارگیری ساختارهای بلور فوتونی یک بعدی متفاوت، سعی در بهینه کردن مقدار افزایش جذب و گسیل از ساختار هستیم. در ارائه نتایج تحقیقات، جذب و گسیل در تک لایه هایی از گرافن، MoS2 و WSe2 در ساختار بلور فوتونی فابری-پروت گونه، [(AB)n(BA)m(AABB)k] که در آن A و B لایه هایی از مواد دی-الکتریک و n، m و k تعداد تناوب ها را نشان می دهند، مقایسه خواهند شد. این نوع ساختار از بلور فوتونی یک بعدی آرایش شناخته شده ای است که دارای تراگسیل کامل می باشد. با وارد کردن تک لایه از مواد ذکر شده در بین بخش-های متناوب، نشان می دهیم که چگونه با تغییر پارامترها و یا آرایش ساختاری بلور، جذب یا گسیل از ساختار افزایش می یابد. برای انجام این کارها، با استفاده از روش ماتریس انتقال، ضرایب جذب و تراگسیل از ساختار بلور فوتونی شامل تک لایه از مواد دوبعدی ذکر شده، محاسبه خواهند شد. لازم به ذکر است، ابتدا بایستی با وجود جذب یا گسیل در تک لایه نازک، ماتریس تراگسیل آن محاسبه گردد. در نهایت با استفاده از نرم افزار مطلب، کد مورد نیاز برای نمایش گرافیکی نمودارهای جذب و تراگسیل نوشته خواهد شد.
پژوهشگران نیر پورقربان (دانشجو)، کاظم جمشیدی قلعه (استاد راهنما)، فاطمه مسلمی (استاد مشاور)