|
عنوان
|
مشخصات غلاف در یک پلاسمای مغناطیدۀ برخوردی مشتمل بر الکترونهای نافزونور و یونهای حرارتی
|
|
نوع پژوهش
|
مقاله چاپ شده
|
|
کلیدواژه‌ها
|
غلاف پلاسمایی، پلاسمای مغناطیده، م یار بوهم، نافزونوری، یونهای حرارتی
|
|
چکیده
|
در این مقاله، تشکیل غلاف و ویژگیهای آن در یک پلاسمای مغناطیده برخوردی شامل الکترونهای نافزونور و یونهای حرارتی مورد مطالعه
قرار میگیرد. با استفاده از مدل سیالی، معیار بوهم به صورت تابعی از پارامترهای پلاسما برای سرعت یونها به دست آمده و نشان داده می شود که برخورد یون-خنثی حد )کران( بالایی برای معیار بوهم تحمیل میکند. همچنین نشان داده میشود که انحراف از توزیع ماکسولی مشخصه های غلاف را تحت تأثیر قرار میدهد. به علاوه، اثرات میدان مغناطیسی، دمای یونی، نافزونوری و بسامد برخورد یون - خنثی بر پتانسیل غلاف و چگالی یون بررسی میشود. نتایج به دست آمده نشان میدهند که با اعمال میدان مغناطیسی میتوان ضخامت غلاف را کنترل کرد.
|
|
پژوهشگران
|
محسن محمدنژاد (نفر اول)، افشین ارقند حصار (نفر دوم)
|